В настоящей работе исследовано влияние пассивации ZnO различными функциональными группами – ацетатной (CH₃COO^–), гидроксильной (OH^-) и аминной (-NH₂, -NHCH₃), на состав поверхности, взаимодействие с MAPbI₃ и Cs_0.12FA_0.88PbI₃ перовскитными материалами и их фотостабильность. Для оценки различий в элементном составе поверхности выращенных пленок ZnO использовался метод рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии (XPS), включающий измерения остовных уровней и валентных полос. Как следует из рисунка 18, пассивация ZnO оказалась наиболее эффективной для образцов с аминными группами, для которых XPS O 1s и Zn 2p не показали преобладания связей Zn-O и Zn-OH на поверхности, а в основном формирование Zn-NH₄OH связей. Последующие измерения оптических спектров интерфейсов ZnO/MAPbI₃ и ZnO/Cs_0.12FA_0.88PbI₃ показали, что пассивация поверхности ZnO аминными группами обеспечивает рекордную устойчивость пленок перовскита MAPbI₃ и Cs_0.12FA_0.88PbI₃ в течение 4000 и 5000 часов непрерывного освещения белым светом, соответственно.